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            磁控濺射鍍膜設備應用廣泛

                目前我國磁控濺射鍍膜設備市場銷售非?;馃?,這是一項熱門的新技術,它帶給企業和廠家的不僅僅是技術,還能夠節省大量的人工運作成本,因此深受廣大用戶的青睞。

                磁控濺射鍍膜設備可制備多種薄膜,不同功能的薄膜,還可沉積組分混合的混合物、化合物薄膜;磁控濺射等離子體阻抗低,從而導致了高放電電流,在約500V的電壓下放電電流可從1A 到100A(取決于陰極的長度);成膜速率高,沉積速率變化范圍可從1nm/s到10nm/s;成膜的一致性好,甚至是在數米長的陰極濺射的情況下,仍能保證膜層的一致性;基板溫升低;濺射出來的粒子能量約為幾十電子伏特,成膜較為致密,且膜基結合較好。
                磁控濺射鍍膜設備得以廣泛的應用是因為該技術的特點所決定的,其特點可歸納為:可制備成靶材的各種材料均可作為薄膜材料,包括各種金屬、半導體、鐵磁材料,以及絕緣的氧化物、陶瓷、聚合物等物質。
                另外磁控濺射調節參數則可調諧薄膜性能,尤其適合大面積鍍膜,沉積面積大膜層比較均勻。
                近年來,磁控濺射鍍膜設備在我國愈發的流行,從側面反映出了我國工業發展十分迅速,今后設備取代人工的可能性是非常巨大的。
            磁控濺射鍍膜設備制備的濺射薄膜的特點

            CCZK-SF磁控濺射鍍膜設備

            CCZK-SF磁控濺射鍍 膜設備


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